Название | Способ электроосаждения тонких пленок CdSe, обладающих высокой фоточувствительностью |
---|---|
Разработчик (Авторы) | Хусурова Гулинур Марсовна, Уразов Кажмухан Аманкелдиевич, Дергачева Маргарита Борисовна, Пузикова Дарья Сергеевна |
Вид объекта патентного права | Изобретение |
Регистрационный номер | 33135 |
Дата регистрации | 16.03.2017 |
Правообладатель | Акционерное общество «Институт Топлива, Катализа и Электрохимии им. Д.В. Сокольского» |
Область применения (класс МПК) | C25D 9/04 (2006.01), B82B 3/00 (2006.01) |
Изобретение относится к области нанесения электролитических покрытий и электролитического осаждения нанокристаллических пленок полупроводниковых соединений, чувствительных к видимому свету, которые могут быть использованы для оптических элементов и изготовления фотоэлектрических преобразователей (ФЭП). Задачей предлагаемого изобретения является улучшение стехиометрического и фазового состава, достижение лучшей морфологии поверхности, уменьшение размера частиц, увеличение ширины запрещенной зоны и увеличение фототока тонкой пленки соединения CdSe, обладающей полупроводниковыми свойствами, путем ее электроосаждения из водного сернокислого раствора, содержащего соли кадмия и селена на проводящее стекло (FТО/ стекло) и использования электролита с добавкой поверхностно-активного вещества лигносульфаната натрия. Поставленная техническая задача достигается способом электроосаждения тонкой пленки CdSe на (FТО/ стекло) из сернокислого электролита, содержащего ионы кадмия и селена в соотношении 45:1 и добавки лигносульфаната натрия в концентрации 9г/л. (рН=2). Элементный состав осадка определяют с помощью энергодисперсионного анализа, используя рентгеновскую приставку к электронному микроскопу, фазовый состав осадка определяют методом рентгено-фазового анализа (РФА), морфологию поверхности определяют с помощью атомно-силовой микроскопии, ширина запрещенной зоны рассчитывается на основе спектров пропускания, полученных с помощью спектрофотометра СФ-256 UV. Фототок определяют методом фотоэлектрохимии (РЕС) в растворе Na2 SO3. Техническим результатом является получение методом электроосаждения фотоанодов CdSe/FTO/стекло, отвечающих элементному и фазовому составу CdSe, имеющих микростуктурную поверхность и увеличенную ширину запрещенной зоны, равную 2,0эВ, и обладающих улучшенными фотоэлектрохимическими свойствами.